首先，當(dāng)氧化膜有灰塵時，我們應(yīng)該先嘗試擦除它。應(yīng)清除關(guān)閉過程中產(chǎn)生的封孔粉塵和觸電造成的粉塵。

其次，逐一分析了氧化飛灰的成因。

通常，膜層起塵是由以下幾點(diǎn)引起的：

1.氧化槽溫度過高；

2.硫酸濃度過低；

3.鋁離子含量超過18G/L（鋁離子含量快速增加的原因也是氧化槽溫度過高，氧化槽未及時打撈）

氧化槽溫度過高，需要判斷冷卻機(jī)設(shè)備是否足夠大？如果正常冷卻能力正常，則需要考慮冷水循環(huán)能力的大小以及循環(huán)水泵堵塞引起的溫度是否過高。把它一個一個地打掃干凈。

定期檢測硫酸含量，并根據(jù)每天從氧化罐中帶出的硫酸消耗量進(jìn)行補(bǔ)償。時間保持在工藝范圍內(nèi)（為180-220g/L）。

電解質(zhì)溫度對氧化膜的耐磨性有很大影響。一般來說，如果溫度降低，鋁和鋁合金陽極氧化膜的耐磨性將增加，這是由于電解質(zhì)對膜的溶解速率降低所致。以獲得更高硬度的氧化膜。我們應(yīng)該掌握，在±2℃內(nèi)進(jìn)行硬陽極氧化處理。